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      >一氧化硅 SiO 高純陶瓷靶材

      一氧化硅 SiO 高純陶瓷靶材

      RDB-BC-SiO

      直接聯(lián)系

      上海研倍新材料科技有限公司

      上海

      產(chǎn)品規(guī)格型號
      參考報價:

      面議

      品牌:

      上海研倍

      型號:

      RDB-BC-SiO

      關(guān)注度:

      882

      范圍(量程或細(xì)度):

      可定制

      產(chǎn)品介紹

      上海研倍新材料 專業(yè)生產(chǎn)合金靶材 一氧化硅 SiO靶材 高純陶瓷靶材

      1、產(chǎn)品信息

      氧化硅是硅與氧的化合物,其在自然界中以多種形態(tài)存在,如石英、長石等。在晶體學(xué)上,氧化硅通常表現(xiàn)為晶體結(jié)構(gòu),具有高熔點(diǎn)和良好的熱穩(wěn)定性。一般來說,氧化硅靶材通常指的是將氧化硅制成特定形狀的靶材,以用于高能粒子束轟擊(如濺射技術(shù))或化學(xué)氣相沉積(CVD)等方法,以生產(chǎn)具有特定結(jié)構(gòu)和性能的薄膜。

      2、產(chǎn)品規(guī)格

      1、樣品測試包裝客戶指定(<1kg/袋裝)

      2、樣品產(chǎn)品包裝(1kg/袋裝)

      3、常規(guī)產(chǎn)品包裝(1kg/2kg/5kg/10kg)

      備注:真空封裝。可根據(jù)客戶要求指定包裝。

      3、產(chǎn)品概述

      產(chǎn)品通過“選用凈化原料+生產(chǎn)純化工藝+品控智能控制”制備生成,產(chǎn)品具有技術(shù)含量高、晶相純、磁性異物少、含水量低、化學(xué)性能穩(wěn)定的特點(diǎn)。

      4產(chǎn)品用途

      半導(dǎo)體制造

      氧化硅靶材在半導(dǎo)體制造中用于生產(chǎn)絕緣層,尤其是在集成電路(IC)和微處理器制造過程中,作為諸如柵極絕緣層、介電層等關(guān)鍵部件的材料,以確保電子元件的性能和穩(wěn)定性。

      光學(xué)應(yīng)用

      在光學(xué)領(lǐng)域,氧化硅用于制造高透明度的窗口材料、反射鏡、透鏡等光學(xué)元件,以及作為光纖的包層材料,以保持光信號的高效率傳輸。

      太陽能電池

      在太陽能電池制造中,氧化硅作為薄膜太陽能電池的基板材料,或作為增透膜使用,以提高光的吸收效率。

      研究與開發(fā)

      在科學(xué)研究中,氧化硅靶材用于制造各種實(shí)驗設(shè)備的表面涂層,如用于光譜分析、納米材料生長等。

      電子封裝與防護(hù)

      在電子產(chǎn)品中,氧化硅用于提供電子元件的封裝層,增強(qiáng)其抗外部環(huán)境的性能,如機(jī)械沖擊、濕氣侵蝕等。

      環(huán)境凈化

      在空氣凈化系統(tǒng)中,氧化硅作為過濾材料,用于去除空氣中的顆粒物和有害物質(zhì)。


      產(chǎn)品咨詢

      一氧化硅 SiO 高純陶瓷靶材

      RDB-BC-SiO

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