一、儀器主要用途

二、儀器技術原理和參數

1、儀器工作原理

原子或離子可處于不連續的能量狀態，該狀態可以用光譜項來描述；當處于基態的原子或離子吸收了一定的外界能量時，其核外電子就從基態躍遷到激發態，而處于激發態的原子或離子很不穩定，經由約秒便躍遷返回基態，并將激發所吸收的能量以光的形式放出，將這些光按一定的波長順序排列即為原子光譜；由于特定元素可產生一系列不同波長的光，通過識別待測元素的特征光譜存在與否即可進行定性分析，根據該波長光的強度進行定量分析。

激發臺中的電極與預先制備好的金屬樣本之間在激發過程中產生電火花?；鸹òl出的光通過入射狹縫進入光室，通過光柵分光后，不同波長的光以不同的角度分開，照射到CMOS傳感器上。傳感器將光信號轉化成為電信號，并通過測量系統傳輸給計算機，經處理后，得出分析結果。

2、主要技術參數

項目 指標 

檢測基體 鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基、錳基、鉻基等13個基體 

光學系統 帕型-龍格 羅蘭圓全譜真空型光學系統 

波長范圍 165-589nm（可安裝上下限檢測器范圍） 

探 測 器 高分辯率多CMOS圖像傳感器 

光源類型 DDD數字激發光源，高能預燃技術（HEPS） 

放電頻率 100-1000Hz 

放電電流 **400A 

檢測時間 依據樣品類型而定，一般在25s左右 

電極類型 鎢材噴射電極 

分析間隙 樣品臺分析間隙:3.4mm 

真空系統 真空軟件自動控制、監測 

氬氣純度 99.999% 

氬氣壓力 0.5MPa 

工作電源 AC220V 50/60Hz  

儀器尺寸 750*560*350mm 

儀器重量 約70kg 

五、儀器技術特點

W4型全譜直讀光譜儀擁有多項**技術，可快速的對金屬材料樣品進行元素測定。光學系統采用CMOS檢測器，光譜范圍覆蓋全部典型材料。無論從低含量元素還是到高含量的元素，它都能準確、可靠的分析。，針對不同材料、不同要求，具有性價比高的全譜直讀光譜儀，可滿足金屬制造業、加工業及金屬冶煉用于質量監控、材料牌號識別、材料研究和開發的應用。

1、性能優越的光學系統

帕邢-龍格結構凹面光柵，全譜覆蓋，滿足客戶對全元素檢測的需求。

直射式光學技術及采用MgF材料制作的光學器件，保證紫外區域的性能。

高分辯率多CMOS讀出系統，更低的暗電流，更好的檢出限，更高的穩定性，更強的靈敏度，滿足N的分析要求。

2、大能量的數字激發光源

全數字化智能復合光源DDD技術，帶來優越分析性能。

緊湊的設計及半導體控制技術，使得光源具有更好的穩定性、更強的可靠性。

高能預燃技術（HEPS),激發參數調整，充分滿足不同基體、不同樣品以及不同分析元素的激發要求。

3、人性化的樣品激發臺設計

激發臺直接將激發光導入光學系統

開放式樣品臺，滿足大樣品測試要求。

變換電極可對小樣品及復雜幾何形狀樣品分析有更好的性能

4、簡潔的氬氣流設計

智能氬氣流設計及粉塵收集清理裝置

獨有的氬氣噴射技術，有效消除激發過程中等離子體的飄移，確保CCD檢測器能夠觀測高溫區域光信號，提高精度和穩定性。

激發后，脈沖式氬氣吹掃，提高粉塵去除效果，提升儀器的短期和長期穩定性。

5、全智能的真空測量和控制

真空系統完全程控，在保證真空度的同時減少真空泵的運行時間，

雙級設置，在儀器不運行的情況下，開啟待機真空運行狀態。

多級真空隔離措施及增加濾油裝置，保障光學元器件在可靠的環境中工作。

6、方便快捷的透鏡清理裝置

一體化的真空球閥，在清理透鏡時有良好的隔離效果。

單板式透鏡設計，拆裝方便。

交叉機械裝置，在未解除隔離的情況有效保護光學系統。

7、云計算及讀出系統

計算機與手機（或PAD)可同步顯示，方便面板操作。

高分辯率多CMOS讀出系統及FPGA、DSP和ARM技術，進行數據采集。

以太網和TCP/IP協議，數據傳輸高速、可靠。

數據可遠程傳輸，多方面實現網絡化。實時方便對儀器運行狀態的監測和控制。

數據可進行云打印。

8、專用的光譜分析軟件

光譜儀制作標準的專用光譜儀軟件，操作界面人性化，功能標準化。

儀器在軟件中配備多條工廠校正曲線及更多材質分析解決方案。

可根據用戶的材料要求，可現場延長標準曲線的測量上、下限。

9、儀器及軟件運算功能強大

自動光路校準

低氬氣消耗

通用可調樣品適配器

基體擴展功能

標準化參數修改

控樣修正功能

更安全、更開放的便捷設計

結果實時顯示，可為用戶定制打印報告功能