簡介：

真空曝光機：用于對厚度至7mm的鋅板和鎂板進行曝光試驗.兩個型號：

板尺寸至75 x 85 cm和90 x 110 cm

金屬鹵化物燈

該款曝光機用于研究不適用常規標準的曝光試驗，用于測試薄膜和板.

我們的目的是減少功耗但曝光時間不變，并且提供一個快速安全的真空環境.

曝光試驗的光源功率為4000W.

與市場上Z好的試驗箱比較，我們的曝光時間更短.

對燈參數的檢查使我們得到連續且相等的曝光.

光學積分器不足以得到相同曝光.

半透明有機玻璃的正面板可在試驗過程期間檢查儀器，這樣會減少90%的燈暈.

我們產品的每個型號都會提供多語種液晶顯示，顯示信息和可能出現的異常.

技術參數：