裝置概述

本裝置是催化劑預處理裝置，擁有四個氣路，兩套獨立的氣路控制單元，加熱爐安裝在裝置的左右兩側，選用精密的控制儀表，使得裝置具有控溫精度高、可靠性高、操作簡便、結構緊湊的特點。該裝置可用于催化劑預處理，包括還原、氧化、碳化、硫化、氮化等，也可用于復合材料的后處理。

技術參數

-　氣路：1-4（任選）；

-　加熱爐：1-2（任選），加熱爐溫度Max：1200 ℃；

-　氣體質量流量器：0 – 500 mL/min（任選）；

-　工作壓力：常壓；

-　溫度控制：± 0.5 ℃；

-　計算機控制（任選）。