*近，德國(guó)LEICA推出了新一代薄膜測(cè)厚儀DRM1000以應(yīng)對(duì)微電子，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的新高潮。該膜厚儀的先進(jìn)性在于：

--*小光斑可達(dá)1微米

--既使用顯微光譜反射法又能使用白光干涉法進(jìn)行測(cè)量半導(dǎo)體薄膜厚度

--德國(guó)LEICA頂尖的光學(xué)顯微鏡系統(tǒng)

--自動(dòng)建模和海量光譜數(shù)據(jù)

德國(guó)LEICA DRM1000 顯微光譜薄膜測(cè)厚儀是對(duì)薄膜的反射光譜的干涉圖樣進(jìn)行分析來進(jìn)行膜厚測(cè)量，*小測(cè)量光斑可達(dá)1微米。該系統(tǒng)由德國(guó)LEICA DM4M，DM6M等顯微鏡和膜厚測(cè)量模塊組成，由于它的快速運(yùn)算，使得它可高重復(fù)率進(jìn)行膜厚的光學(xué)測(cè)量以及對(duì)膜的相關(guān)計(jì)算。另外，它的新型自動(dòng)建模功能：可為待測(cè)的樣品與光譜庫(kù)里的數(shù)據(jù)快速的比較，來自動(dòng)建模。是真正適合半導(dǎo)體，液晶等微電子行業(yè)進(jìn)行在線膜厚檢測(cè)新型高端儀器。

LEICA DRM1000膜厚儀還可使用白光干涉和雙光干涉進(jìn)行膜厚測(cè)量。技術(shù)參數(shù)：

測(cè)量方法：非接觸式

測(cè)量原理：反射光譜法

測(cè)量樣本大?。?*為12 inch -300mm

測(cè)量范圍：500?~ 20?（Depends on Film Type） 選配干涉測(cè)量模塊時(shí)*小30?光斑尺寸：*小可達(dá)1微米

測(cè)量速度：300ms

準(zhǔn)確性： 1nm （典型：400nm Sio2/Si）

精確度：0.3nm （典型：400nm Sio2/Si）

光譜范圍： 450 – 920nm應(yīng)用領(lǐng)域：

半導(dǎo)體: Poly-Si， GaAs， GaN， InP， ZnS + Si， Ge， SiGe...電解質(zhì): SiO2， TiO2， TaO5， ITO， ZrO2， Si3N4， Photoresist， ARC，...平板行業(yè)：（包括 LCD， PDP， OLED， ）: a-Si， n+-a-Si， Gate-SiNx MgO， Alq， ITO， PR， CuPc， NPB， PVK， PAF， PEDT-PSS， Oxide， Polyimide...光學(xué)涂層：: 減反射膜， Color Filters...太陽(yáng)能電池 Doping a-Si（i-type， n-type， p-type）， TCO（ZnO， SnO， ITO..）聚合物: PVA， PET， PP， Dye， Npp， MNA， TAC， PR... Recordable materials: Photosensitive drum， Video head， Photo masks， Optical disk