208HR高分辨離子濺射儀為場發(fā)射掃描電鏡應(yīng)用中遇到的各種樣品噴鍍難題提供真正的解決方案。

場發(fā)射掃描電鏡觀察時，樣品需鍍上極其薄、無細晶且均勻的膜層以消除電荷積累，并提高低密度材料的對比度。為了將細晶的尺寸減小到*小程度，208HR提供了一系列的鍍膜材料，并對膜厚和濺射條件提供無可媲美的控制。

208HR分子渦輪泵高真空系統(tǒng)提供寬范圍的操作壓力，可以對膜層的均勻性和一致性進行精確控制，并**程度減小充電效應(yīng)。高/低樣品室的結(jié)構(gòu)設(shè)計使靶材和樣品之間的距離調(diào)節(jié)變得極為方便。

MTM-20高分辨膜厚控制儀分辨率小于0.1nm，其作用是對所鍍薄膜的厚度進行精確控制，它尤其適合場發(fā)射電鏡對膜厚（0.5－3nm）的要求。

場發(fā)射掃描電鏡鍍膜推薦的靶材是：

• Pt/Pd：非導電樣品鍍膜的通用鍍膜材料

• Cr：優(yōu)良的半導體樣品的鍍膜材料

• Ir：優(yōu)良的真正無細晶的鍍膜材料

208HR系統(tǒng)為得到**高分辨鍍膜效果提供了多種配置選擇，可配備標準的旋片泵或提供干凈真空的無油渦旋式真空泵，標配的208HR包含Cr 和 Pt/Pd靶。

一、主要特性

·可選擇多種鍍膜材料

·精確的膜厚控制

·樣品臺控制靈活：可對樣品臺進行獨立的旋轉(zhuǎn)、行星式轉(zhuǎn)動、傾斜控制，保證形貌差異大的樣品也能得到**的鍍膜效果。

·多個樣品座：提供4個樣品座，每個樣品座直徑32mm，可裝載多達6個小樣品座。

·樣品室?guī)缀慰勺儯?/strong>樣品室?guī)缀斡糜谡{(diào)節(jié)鍍膜的速率（1.0nm/s ～ 0.002nm/s）

·寬范圍的操作壓力：獨立的功率和壓力調(diào)節(jié)，氬氣的壓力大小范圍為0.2 - 0.005 mbar。

·緊湊、現(xiàn)代的桌上型設(shè)計

·操作容易

二、技術(shù)參數(shù)