美國PE公司1980年就開始致力于電子行業使用的等離子設備研發及相關服務， 至今已成為全美***的等離子系統解決方案專業供應商， 其旗下PE系列， BT大尺寸系列，大氣壓系列， PCB專用系列， Roll-to-Roll系列的發展歷史已經超過了30年， 廣泛應用于全球各大小型生產及研發實驗室， 全球超過8000套用戶。知名客戶如美國宇航局NASA， 波音Boeing， 霍尼韋爾Honeywell， 摩托羅拉Moto， 德國拜耳Bayer， 軍用飛機領軍企業洛克希德馬丁Lockheed-Martin， 及全美各大名校及科研院所如哈佛大學， 麻省理工， 萊斯大學， 橡樹嶺國家實驗室等等。

美國PE擁有等離子技術領域里*頂尖的技術， 憑借著多年研發和突破性創新， 先已擁有了多項技術**， 如**的溫控技術和**的靜電屏蔽技術， 使其等離子設備能提供****的處理效率， 均勻性和可靠性， 其刻蝕清洗效率是市面上其他等離子設備的三倍以上。

PE-25，PE-50，PE-75，PE-100，PE-200臺式等離子表面處理設備是專門針對于大學，研究機構和工廠研發設計的小批量樣品處理裝置， 性價比高，性能優越，操作方便。

PE系列優勢如下：

1. 真空腔室均采用航空特種鋁，研究表明采用這種特級鋁材的腔體材質可以微調每個等離子體以保證整個處理過程的**均勻性。性能遠優于傳統石英，玻璃或不銹鋼腔室

2. 腔體一體成型，無焊接縫隙， 具有非常好的耐用性和整體穩定性。

3. 電容平行板設計， **效*均勻的等離子體產生方式。 腔體與電極之間的間隙可到63mm至140mm，可以輕松將大尺寸不規則實驗樣品放入腔體內處理。

4. 操作簡便， 面板的操作部分，非傳統按鈕旋鈕控制的設計使得操作控制更加便捷和避免人為誤操作。一般操作人員在極短的時間內就可以熟練操作，只需要幾分鐘就可上手掌握。

5. 安全保障：在小型設備中，**引入一鍵急停保護按鈕，當參數設置有誤而設備已經啟動的時候，可以快速終止實驗，以*小程度降低因操作失誤而造成對樣品的損害。

6. **的粉體收集裝置，可以處理500~1000ML粉體

技術參數如下：

應用領域如下：

目前設備廣泛應用于：等離子清洗、刻蝕、改性、灰化、涂鍍和反應離子刻蝕，在真空電子、LED、太陽能光伏、集成電路、生命科學、半導體科研、半導體封裝、芯片制造、MEMS器件等領域有廣泛應用。

RIE系統刻蝕效果取決于氣體的流量，壓力和功率設置等方面。

我們設計和制造的反應性離子蝕刻系統，可以滿足客戶的任何需要，且可以根據客戶的要求定制適合的等離子系統。我們的等離子處理系統，以提供快速，高品質的蝕刻，低損傷，提供****的均勻性而著稱。

我們的等離子蝕刻機是理想的干蝕刻，目前正在采用的蝕刻：

半導體/集成電路

氮化鎵（甘）

氮化鋁鎵/氮化鎵（AlGaN/GaN）

砷化鎵/砷化鋁鎵（一般反避稅條款/ algaar）

砷化鎵（GaAs）

磷化銦、銦鋁砷/銦鎵砷化物（InP InGaAs/InAlAs）

硅（硅）

硅鍺（SiGe）

氮化硅陶瓷（Si3N4）

硅的溴化氫（sihbr）

硒化鋅（ZnSe）

金屬

鋁（鋁）

鉻（鉻）

鉑（鉑）

鉬（鉬）

鈮（鈮）

鉭（鉭）

鈦（Ti）

鎢（鎢）

電介質

銦錫氧化物（ITO）

鋯鈦酸鉛（PZT）

碳化硅（碳化硅）

塑料/聚合物

聚四氟乙烯（PTFE）

聚甲醛（POM）

聚苯并咪唑（PBI）

聚醚醚酮（PEEK）

聚酰亞胺（聚酰亞胺）

聚酰胺（尼龍）

全氟烷氧基烷（PFA）

聚全氟乙丙烯（FEP）

聚烯烴

聚酯

失效分析