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Pluto-30型等離子清洗機

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上海昭沅儀器設備有限公司

上海

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產品介紹

等離子表面處理系統/等離子清洗機Pluto-30

Pluto30是專為研發而設計的全功能等離子體系統，13.56MHz射頻發生器和自動匹配網絡電源在整個過程區域產生均勻的等離子體。Pluto 30的真空腔可支持多達7個可調節樣品架，以容納各種形狀尺寸的樣品。Pluto30具有多種電極設置，可配置成RIE和PECVD模式，從而擴大了該系統的應用范圍，提供給用戶****的靈活性。

Pluto30參數
腔體	腔體尺寸	300W x 280H x 366Dmm
	容量	30L
	電極數量	*多可達8層
電極	電極間隙	48mm
	功率電極尺寸	226W x 210D mm
	接地電極尺寸	260W x 210D mm
射頻系統	射頻功率和頻率	300W/13.56MHz
氣體控制	MFC控制器	標配1個MFC，*多4個MFC控制器
系統控制	7寸工業觸控屏	全數字控制，實時顯示工作狀況，可設定操作權限和各種報警值，可儲存工藝方案
真空泵系統	油泵	32m3/h
真空泵系統	功率	220V/10A，50Hz，單相，3線
尺寸	外形尺寸	706W x 804D x 735H mm
特別裝置需求	工藝氣體	0.25英寸. 氣管快接.適用于 15-20psig;
	凈化氣	0.25英寸. 氣管快接. 適用于10-100psig
	CDA	0.25英寸. 氣管快接. 適用于60-90psig
	排氣接口	KF40
可選項	液體前驅體輸送系統
	500W/13.56MHz射頻系統
	37m3/h 干泵
	排氣洗滌器
	油霧消除器

特征及優勢

**氣體輸送系統，提供氣體分配均勻性和靈活的氣體分配方法

不同工藝模式（RIE、下游等離子體等）的柔性電極配置

獨特的射頻系統提供**的工藝重復性和處理效率

全自動處理能力

圖形用戶界面支持配方編輯器、配方驅動流程并提供實時流程信息

臺式設計需要較小的占地面積

典型應用

表面活化

提高表面能量以提高材料粘合性：預壓模粘合；預焊線粘合

增強表面膠體流動性：預成型；預倒裝芯片下溢

表面粗糙度和蝕刻

降低表面應力，改善表面粘結性

灰化和表面清潔

Plasma等離子蝕刻（配備RIE配置)

電介質/III-IV材料

納米涂層（配備液體前體輸送裝置）

耐水納米涂層：印刷電路板表面處理

防腐納米涂層：醫療器械，醫療植入物

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