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      水煤漿研磨分散工藝

      CMD2000

      直接聯(lián)系

      上海依肯機械設備有限公司

      德國

      產(chǎn)品規(guī)格型號
      參考報價:

      10-20萬元

      品牌:

      IKN

      型號:

      CMD2000

      關注度:

      3429

      范圍(量程或細度):

      0-2微米

      創(chuàng)新點:

      高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求, 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離,定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

      應用行業(yè):

      化工 能源

      典型用戶:

      青島 深圳 山東

      產(chǎn)品介紹

      產(chǎn)品關鍵詞概述:  水煤漿研磨分散工藝   水煤漿研磨分散機  水煤漿研磨機  德國研磨分散機  研磨分散機在煤化工的應用  研磨分散機價格


       0318091623_587674.jpg

      “水煤漿”, “水”、“煤”和“漿”混均而成的具有流變特性的漿體燃料,水是其重要組成之一。那么,水煤漿技術就是把“水”、“煤”和“漿”三者進行物理加工并應用的方式方法。追溯煤漿演變進程,可以領悟到其中的“替代”過程,即從單純的油品液體燃料;到煤粉替代部分油料,出現(xiàn)煤—油混合型漿體燃料,即油煤漿;又經(jīng)水替代部分油品,出現(xiàn)煤—乳化油(油—水)混合型漿體燃料;再到水替代全部油品,出現(xiàn)煤—水混合型漿體燃料,即水煤漿。

      水煤漿制漿工藝通常包括破碎、磨礦、攪拌與剪切,以及為剔除*終產(chǎn)品中的超粒與雜物的濾漿等環(huán)節(jié)。

                     

      咨詢熱線:13795214885 賈清清  微信同手機號  公司有樣機可供客戶購前實驗,歡迎廣大客戶來我司參觀指導!

                                             

      通常具有以下物理性質(zhì):

      序 號 名 稱 符 號 單 位 數(shù) 值 備 注 
      1 重量濃度  % 66%±1%  
      2 表觀粘度  CP 1000±200 100S-1,20℃ 
      3 灰份 Ad %<9  
      4 硫份 St,d % ±0.5  
      5 揮發(fā)份 Vdaf % >30  
      6 **粒徑 dmax μm<300  
      7 平均粒徑  dpj<45μm  
      8 發(fā)熱量 Qnet.v.ar KJ/kg 19228 4600大卡

      (*國產(chǎn)某品牌煤漿物理性質(zhì))

       1101094634_189970.jpg

      在國內(nèi),傳統(tǒng)的研磨方法分為干磨和濕磨兩種,通常采用球磨機,平均粒徑為50 微米左右。如采用IKN  ER2000系列高剪切乳化分散機進行分散研磨,平均粒徑可達到10 微米以下,并從以下幾個方面體現(xiàn)出工藝改進的優(yōu)勢:

       

      1)      改善煤漿的分散性,并減少分散劑用量

      2)      改善煤漿的穩(wěn)定性,并減少穩(wěn)定劑用量

      3)      改善煤漿的燃燒效率和燃燒熱

      4)      若在剪切分散時加入適當氧化劑,可幫助煤分充分燃燒

      5)      可嘗試低溫燃燒,從而減少有毒物的排放

      6)      大大提高生產(chǎn)效率,每小時處理量可以達到100噸甚至更高,在線連續(xù)生產(chǎn),正常狀況下,可以實現(xiàn)3-6個月不停機運轉(zhuǎn)

      7)      機器維護簡單,故障率低

      8)      由于顆粒較小,降低后續(xù)工程部件磨耗頻率和周期

      上海IKN技術,獨特創(chuàng)意,融化理念。將IKN高剪切膠體磨進行進一步的改良,在原來CM2000系列的基礎上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤(均質(zhì)盤、乳化盤)。從而形成改良型的膠體磨,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化),將物料的處理一步到底的完成,我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”、“研磨均質(zhì)機”、“研磨乳化機”。

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      CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

      **級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

      第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。

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      研磨分散機的特點:

      1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

       

      2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

      3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

      4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

      5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

      CMD2000系列化工研磨分散機設備選型表
       

      型號

      流量

      L/H

      轉(zhuǎn)速

      rpm

      線速度

      m/s

      功率

      kw

      入/出口連接

      DN

      CMD2000/4

      300

      9000

      23

      2.2

      DN25/DN15

      CMD2000/5

      1000

      6000

      23

      7.5

      DN40/DN32

      CMD2000/10

      2000

      4200

      23

      22

      DN80/DN65

      CMD2000/20

      5000

      2850

      23

      37

      DN80/DN65

      CMD2000/30

      8000

      1420

      23

      55

      DN150/DN125

      CMD2000/50

      15000

      1100

      23

      110

      DN200/DN150

       

      流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到**允許量的10%

      公司有樣機可供客戶實驗,歡迎廣大客戶來我司參觀指導!,我司有著豐富的經(jīng)驗,跟常州、無錫、長春、寧波、濰坊、深圳、廈門、東莞等地大型生產(chǎn)企業(yè)有著深度合作。技術及價格咨詢請來電:賈清清  13795214885  QQ  2294898886


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