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      產(chǎn)品

      產(chǎn)品>

      混合設(shè)備>

      分散機(jī)

      >固含量5%碳納米管NMP漿料研磨分散機(jī)

      固含量5%碳納米管NMP漿料研磨分散機(jī)

      CMD2000

      直接聯(lián)系

      上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司

      德國(guó)

      產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)
      參考報(bào)價(jià):

      5-10萬(wàn)元

      品牌:

      IKN

      型號(hào):

      CMD2000

      關(guān)注度:

      5556

      范圍(量程或細(xì)度):

      0-2微米

      創(chuàng)新點(diǎn):

      IKN研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,采用德國(guó)先進(jìn)技術(shù),整機(jī)一體化,功能模塊化,創(chuàng)新設(shè)計(jì),靈活高效;有著高精度的設(shè)計(jì),內(nèi)部的角度、溝槽、間距選擇十分科學(xué)高效;內(nèi)部工作組可以一級(jí)、二級(jí)、三級(jí)、四級(jí)....可以滿足不同物料的要求

      應(yīng)用行業(yè):

      化工 能源

      典型用戶:

      青島 廈門 深圳

      產(chǎn)品介紹


      固含量5%碳納米管NMP漿料研磨分散機(jī),固含量5%石墨烯NMP漿料研磨分散機(jī) ,固含量5%石墨NMP漿料研磨分散機(jī) ,固含量5%膨脹石墨漿料研磨分散機(jī) ,固含量5%蠕蟲(chóng)石墨漿料研磨分散機(jī) ,石墨烯分散德國(guó)進(jìn)口設(shè)備,IKN石墨烯分散設(shè)備,IKN石墨烯研磨分散機(jī)


      IKN研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,采用德國(guó)先進(jìn)技術(shù),整機(jī)一體化,功能模塊化,創(chuàng)新設(shè)計(jì),靈活高效;有著高精度的設(shè)計(jì),內(nèi)部的角度、溝槽、間距選擇十分科學(xué)高效;內(nèi)部工作組可以一級(jí)、二級(jí)、三級(jí)、四級(jí)....可以滿足不同物料的要求

       

      IKN研磨分散機(jī)是由電動(dòng)機(jī)通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及研磨的效果。

       

      上海依肯的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。簡(jiǎn)單的說(shuō)就是將IKN/依肯膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級(jí)模塊,加入了一級(jí)分散盤(pán)。可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機(jī)可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm,是目前國(guó)產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

       

      碳納米管NMP漿料 

      碳納米管作為一維納米材料,重量輕,六邊形結(jié)構(gòu)連接**,具有許多異常的力學(xué)、電學(xué)和化學(xué)性能。近些年隨著碳納米管及納米材料研究的深入其廣闊的應(yīng)用前景也不斷地展現(xiàn)出來(lái)。

      碳納米管,又名巴基管,是一種具有特殊結(jié)構(gòu)(徑向尺寸為納米量級(jí),軸向尺寸為微米量級(jí),管子兩端基本上都封口)的一維量子材料。碳納米管主要由呈六邊形排列的碳原子構(gòu)成數(shù)層到數(shù)十層的同軸圓管。層與層之間保持固定的距離,約0.34nm,直徑一般為2~20 nm。并且根據(jù)碳六邊形沿軸向的不同取向可以將其分成鋸齒形、扶手椅型和螺旋型三種。其中螺旋型的碳納米管具有手性,而鋸齒形和扶手椅型碳納米管沒(méi)有手性。

      一、碳納米管分散技術(shù)三要素

      二、分散劑用量推薦

      三、碳納米管水分散劑(TNWDIS)概述

      四、超聲波分散設(shè)備使用建議及分散實(shí)例

      五、研磨分散設(shè)備使用建議

      碳納米管分散技術(shù)三要素:分散介質(zhì)、分散劑和分散設(shè)備

      1、分散介質(zhì)

      (1)根據(jù)粘度不同,分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中,如水和有機(jī)溶劑,碳納米管易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹(shù)脂、液態(tài)硅橡膠等,高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料。

      (2)此處介紹的碳納米管分散技術(shù),針對(duì)中、低粘度分散介質(zhì)。

      2、分散劑

      (1)分散劑的選擇,與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)、極性、溶度參數(shù)等密切相關(guān)。

      (2)分散劑的用量,與碳納米管比表面積和共價(jià)鍵修飾的功能基團(tuán)有關(guān)。

      (3)水性介質(zhì)中,推薦使用TNWDIS。強(qiáng)極性有機(jī)溶劑中,如醇、DMF、NMP, 推薦使用TNADIS。中等極性有機(jī)溶劑如酯類、液態(tài)環(huán)氧樹(shù)脂、液態(tài)硅橡膠,推薦使用TNEDIS 。

      3、分散設(shè)備

      (1)超聲波分散設(shè)備:非常適合實(shí)驗(yàn)室規(guī)模、低粘度介質(zhì)分散碳納米管,用于中、高粘度介質(zhì)時(shí)會(huì)受到限制。

      (2)研磨分散設(shè)備:適合大規(guī)模地分散碳納米管、中粘度介質(zhì)分散碳納米管。

      (3)采用“先研磨分散、后超聲波分散”組合方法,可以高效、穩(wěn)定地分散碳納米管

      分散劑用量推薦。

      1、碳納米管比表面積與分散劑用量

      我們?cè)噭┘?jí)碳納米管分為單壁管(外徑<2nm)和多壁管。多壁管根據(jù)外徑不同,分為TNM1(外徑50nm)。隨著外徑的增加,碳納米管的比表面積減小

      TNWDIS推薦用量:?jiǎn)伪诠苤亓康?.5倍, TNM1 重量的1.0倍, TNM8 重量的0.2倍。其余用量參考調(diào)整

      2、碳納米管功能化與分散劑用量

      功能化后的碳納米管,更容易在水中分散。 通常,碳納米管羧基功能化后,分散劑的用量可以減少50%

      TNWDIS推薦用量:羧基化單壁管重量的1.5-1.8倍, 羧基化TNM1 重量的0.5倍, 羧基化TNM8 重量的0.1倍

      3、對(duì)于TNADIS, TNM8 的推薦用量是重量的0.2倍。對(duì)于TNEDIS, TNM8 的推薦用量是重量的0.8倍

       

      5%碳納米管NMP漿料研磨分散機(jī)

      在做納米粉體分散或研磨時(shí),因?yàn)榉垠w尺度由大變小的過(guò)程中,范德華力及布朗運(yùn)動(dòng)現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C(jī)來(lái)控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運(yùn)動(dòng)影響,是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級(jí)粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。
          

      研磨機(jī) 和分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。 

          **級(jí)由具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

          第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來(lái)滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

      CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

      IKN石墨烯研磨設(shè)備采用德國(guó)先進(jìn)的高速研磨分散技術(shù),通過(guò)超高轉(zhuǎn)速(**可達(dá)14000rpm)帶動(dòng)超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配CM+8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì),從而得出超細(xì)的顆粒(當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。

       


       


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