粉體行業(yè)在線展覽
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全自動(dòng)化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)
直接聯(lián)系
北京特思迪半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
北京
面議
北京特思迪
全自動(dòng)化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)
2230
全自動(dòng)化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)
TPC-2110
該設(shè)備是適用于薄膜（介質(zhì)層）的全自動(dòng)CMP拋光設(shè)備，用于氧化物、金屬、STI、SOI、MEMS等產(chǎn)品的平坦化拋光。設(shè)備兼容6/8英寸晶圓，采用多分區(qū)氣囊加壓方式，可實(shí)現(xiàn)納米級(jí)精密去除，配置雙面刷洗、兆聲清洗、甩干&N2吹干功能，實(shí)現(xiàn)干進(jìn)干出的全自動(dòng)CMP加工?？筛鶕?jù)需求選配摩擦力、電渦流、在線紅外檢測(cè)等EPD功能。
晶圓尺寸6/8英寸
拋光盤(pán)數(shù)量1個(gè)
Wafer氣囊壓力0-700 g/cm2
拋光盤(pán)直徑OD530 mm
Features
產(chǎn)品特點(diǎn)
加壓方式
多區(qū)加壓
驅(qū)動(dòng)形式
拋光壓頭自轉(zhuǎn)&擺動(dòng)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)
恒溫控制
拋光盤(pán)溫度控制系統(tǒng)
清洗單元
雙面PVA刷自動(dòng)雙面刷洗干燥
產(chǎn)品咨詢(xún)
全自動(dòng)化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)
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