超純三氧化鎢粉體：高端材料領域的理想之選

在高端材料的精密世界里，每一份性能突破都源于基礎原料的**追求。我們的三氧化鎢（WO?）粉體，以**參數重新定義行業標準，為您的創新應用筑牢根基。

一、核心參數：實力鑄就品質

（一）高純度，低雜質

WO?含量高達99.98%，雜質元素嚴格管控：Si 僅 20ppm、Al 5ppm、Ti 7ppm ，極低的雜質殘留，為電子、光學等對純度敏感領域提供純凈 “基石”，避免雜質引發的性能波動，保障終端產品穩定性與一致性。

（二）精細微觀，精準可控

• 原晶粒度：SEM 檢測顯示原晶粒度為30nm ，納米級晶粒賦予材料大比表面積與高活性，在催化、涂層等應用中，可加速反應進程，提升材料性能；

• 松裝密度：0.45g/cm3 ，良好的松散特性，便于生產中均勻分散、混合，適配多種工藝（如陶瓷燒結、涂層制備），減少團聚帶來的質量隱患；

• 比表面積：3m2/g ，合理的比表面參數，平衡材料活性與穩定性，既滿足高效反應需求，又避免因表面能過高導致的團聚、失活問題。

（三）嚴苛雜質，全面護航

• 重金屬雜質（Pb、Sn 等）：Pb 檢測為 0、Sn 僅 2ppm ，符合電子、醫藥等領域嚴苛的環保與安全標準，助力產品通過國際認證；

• 磁性異物（Fe、Cr、Ni）：控制在 65ppb ，在精密電子器件、光學設備制造中，杜絕磁性雜質對電磁性能、光學精度的干擾，保障設備高效運行。

• 水分：0.7Wt.% ，低水分含量，提升材料存儲穩定性，避免因吸水導致的變質、團聚，延長貨架期，降低生產損耗。

二、多元應用：解鎖無限可能

（一）電子信息領域

在芯片制造、傳感器件中，高純度、低雜質的三氧化鎢，可制備高性能半導體薄膜、敏感元件 。其納米晶粒與精準比表面，助力電子遷移效率提升，讓器件響應更快、精度更高，為 5G、人工智能硬件升級提供核心支撐。

（二）光學涂層方向

用于光學玻璃、鏡頭涂層，30nm 原晶粒度可實現均勻、致密涂層沉積 ，99.98% 純度保障高透光率與低散射，搭配低磁性異物優勢，為高端光學儀器（如顯微鏡、天文望遠鏡）打造清晰、穩定的光學環境。

（三）催化材料應用

憑借高活性比表面與納米晶粒，作為催化劑或催化劑載體，可加速化學反應（如廢氣處理、新能源合成反應） 。低雜質確保催化路徑純凈，提升反應轉化率與選擇性，助力環保、能源領域工藝優化。

（四）陶瓷與新材料

在陶瓷燒結中，均勻分散的納米粉體可細化陶瓷晶粒，提升陶瓷強度、韌性與電學性能 ；用于新型儲能材料（如鋰離子電池電極改性），能優化離子傳輸通道，增強電池充放電效率與循環壽命。

三、品質承諾：從原料到應用的全鏈保障

我們堅持源頭把控，精選優質鎢礦原料，結合先進提純、納米制備工藝（如氣相沉積、液相合成優化），確保每一批三氧化鎢粉體參數穩定。生產過程全流程質檢，覆蓋雜質分析、微觀結構表征、理化性能測試，為您提供可追溯、高可靠的材料解決方案。

無論您是深耕電子芯片的技術先鋒，還是探索新能源催化的科研團隊，亦或是專注光學涂層的制造專家，這款三氧化鎢粉體都將成為您突破技術瓶頸、打造高端產品的得力伙伴。選擇我們的三氧化鎢，就是選擇性能**、品質如一的材料基石，攜手開啟高端材料應用的全新可能！

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