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      >大口徑動態plasma輔助法卷對卷式石墨烯制備設備

      大口徑動態plasma輔助法卷對卷式石墨烯制備設備

      RTR-150 卷對卷

      直接聯系

      安徽貝意克設備技術有限公司

      安徽

      產品規格型號
      參考報價:

      面議

      品牌:

      貝意克

      型號:

      RTR-150 卷對卷

      關注度:

      2954

      產品介紹

      一、設備簡介:

      該設備為我司研發用于材料連續生長的專用設備,此款設備是快速冷卻卷對卷等離子體增強CVD連續生長爐,它由高溫生長腔體,質量流量計氣路系統,真空機組,RF射頻電源模塊,石英管,冷卻裝置,收放卷的密封裝置,自動化控制系統組成,兩端分別安裝有進料進氣真空腔室和出料排氣真空腔室(即收放卷的密封裝置),收放密封裝置內分別對應安裝有放卷滾輪和收卷滾輪,所輸出料排氣腔體與爐體之間安裝有冷卻裝置。相對于現有技術具有快速冷卻、連續生長的優點

       

      二、技術參數

      1.加熱系統

      使用溫度

      1200℃

      使用溫度

      ≤1100℃

      爐管尺寸

      Φ150mm(爐管直徑可根據實際需要定制。)

      爐膛材料

      氧化鋁、高溫纖維制品

      熱電偶類型

      K型熱電偶

      控溫精度

      ±1℃

      控溫方式

      30段可編程控溫,PID參數自整定,操作界面為7”工控電腦,內置PLC控制程序。

      加熱長度

      200+200+200mm

      加熱原件

      電阻絲

      供電電源

      單相,220V,50Hz


      2、PE系統

      功率輸出范圍

      0W~1000W

      反射功率

      ≤200W

      射頻輸出接口

      50 Ω, N-type, female

      功率穩定度

      ≤5W

      諧波分量

      ≤-50dbc

      供電電壓

      單相交流(187V-253V) 頻率50/60HZ

      整機效率

      >=70%

      功率因素

      >=90%

      冷卻方式

      強制風冷

       

      3、三路質子流量控制系統

      連接頭類型

      雙卡套不銹鋼接頭

      標準量程(N2)

      200sccm,500sccm、1000sccm(可根據用戶要求定制)

      準確度

      ±1.5%F.S

      線性

      ±1%F.S

      重復精度

      ±0.2%F.S

      響應時間

      氣特性:1~4 Sec,電特性:10 Sec

      工作壓差范圍

      0.1~0.5 MPa

      壓力

      ≤3MPa

      接口

      Φ6,1/4''

      顯示

      4位數字顯示

      工作環境溫度

      5~45高純氣體

      壓力真空表

      -0.1~0.15 MPa, 0.01 MPa/格

      截止閥

      Φ6

      內外雙拋不銹鋼管

      Φ6

      4、低真空機組

      空氣相對濕度

      ≤85%

      工作環境

      5℃~40℃

      工作電電壓

      380V

      抽氣速率

      32m3/h

      極限真空

      5X10-1Pa(空載冷態)

      工作壓力范圍

      1.01325X105~1.33X10-2Pa

      進氣口口徑

      KF40

      排氣口口徑

      KF40

      連接方式

      采用波紋管,手動擋板閥與波紋管相連


      產品咨詢

      大口徑動態plasma輔助法卷對卷式石墨烯制備設備

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