研究級正置金相顯微鏡VMM5000

VMM 5000 是一款研究級正置金相顯微鏡，采用全新設計的無限遠色差校正光學系統和無限遠長工作距明暗場半復消色差專業金相物鏡，全面涵蓋反射明場、反射暗場、透射明場、透反射偏光、反射微分干涉等多種觀察方式，滿足多種研究需求，可廣泛應用于鑄造、冶煉、熱處理、失效分析、線路板和半導體的研究， 原材料檢驗或材料分析等多種檢測，為客戶提供完善的工業檢測解決方案。

多檔分光比觀察頭設計

全新 VMM5000 系列觀察筒，采用寬光束成像系統設計，支持 26.5mm 世界先進的超寬視野觀察，帶給您全新的大視野體驗。兩檔式正像鉸鏈三目觀察筒，保證樣品的移動方向與您通過目鏡觀察到的方向一致，使操作更加得心應手。

三檔式鉸鏈三目觀察筒，在成像光線全部用于雙目觀察或三目攝影的基礎上， 增加一檔 20% 用于雙目觀察，80% 用于顯微攝影，方便用戶同時對鏡下圖像與視頻圖像進行對比觀察；

偏振系統

偏振系統包括起偏器和檢偏器，可做偏光檢測，在半導體和 PCB 檢測中，可消除雜光，細節更清楚。檢偏器分為固定式檢偏器和 360 度旋轉式檢偏器。360° 旋轉式檢偏器可在不移動標本的情況下，方便的觀察標本在不同偏振角度光線下呈現的狀態。可在偏振系統的基礎上加載全新研發微分干涉器，建立諾曼爾斯基微分干涉襯比系統。

諾曼爾斯基微分干涉襯比系統

全新研發的 U-DICR 微分干涉組件，可以將明場觀察下無法檢測的細微高低差， 轉化為高對比度的明暗差并以立體浮雕形式表現出來，如 LCD 導電粒子，精密磁盤表面劃痕等

中性密度濾色鏡連動明暗場觀察設計

照明器前端的撥桿可使明暗場觀察切換更加方便，并帶有中性密度濾色鏡（ND50）聯動功能。由于暗場觀察時通常需要將光源開得比明場觀察更亮，此功能設計可以避免用戶在由暗場切換至明場時，眼睛不會受到強光的刺激，提高使用的舒適性。

透反射照明裝置，光源兼容

12V100W 超長壽命燈箱，采用 PHILIPS 7724 型鹵素燈，為系統提供充足、均勻的照明環境。搖出式消色差聚光鏡（N.A.0.9）系統，優化柯拉照明低倍表現，有效校正色差球差， 得到理想的圖像

專業無限遠長工作距半復消色差金相物鏡

●明暗場物鏡只需一個鏡頭就能勝任明場、暗場、偏光、微分干涉觀察。暗場圖像亮度得到增強，提高了樣品的檢出能力。

●本系列物鏡嚴格挑選高透過率的鏡片和先進的鍍膜技術，真實還原樣品的自然色彩 ；

●明暗場物鏡采用鋁制外套，大大減輕了重量，對防止環境污染，改善物鏡轉換的操控性做出了貢獻 ；

●半復消色差設計具有**的色差校正性能，提高了觀察圖像的襯度、清晰度。

●長工作距物鏡廣泛適用于各種檢測領域，輕松實現無損檢測。

●專用明場半復消色差物鏡可供選擇

人機工程學設計，觸手可及的操作

●鏡座底側低手位調光裝置，可靈活調節光線強弱，并在數字調光屏上顯示相應電壓。可配合左手位粗微調焦，提高工作效率。

●數字調光屏上的開關可一鍵切換透反射照明，復位按鈕將光強設置在使用 LBD 濾色鏡進行顯微攝影時的電壓，約 8V，有相機標志位置。

●鏡座上裝有 3 個濾色鏡，另外還可以選裝第四個，拉桿設計可以很容易的將濾色鏡移入/移出光路。

●左右低手位粗微同軸調焦機構，帶松緊調節裝置。粗調行程 25mm，微調精度 1um， 可用于測量 Z 軸方向極細微物體的高度，如錫球。

滿足多種觀察方式

全面涵蓋明場、暗場、偏光、微分干涉等多種觀察方式，適應多種研究需求。

●高襯度暗場觀察。充分利用物鏡的孔徑角，能夠清晰的觀察到金相組織的雜質及細微缺陷

PCB 切片暗場

●簡易偏光觀察。采用 360°旋轉式檢偏器可在不移動標本的情況下，方便地觀察標本在不同偏振角度光線下呈現的狀態

金相組織簡易偏光

●DIC 微分干涉觀察。IMM5000 配置的微分干涉組件，可以將明場中無法檢測到的高度差異，以浮雕的形勢表現出來，適用于檢測高度差異及其微小的樣品， 包括金相組織、礦物和晶元表面等

半導體微分干涉

技術參數表

●標配 ○選配