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      >CHIP-NOVA程序升溫原位TEM氣體反應系統(tǒng)

      CHIP-NOVA程序升溫原位TEM氣體反應系統(tǒng)

      直接聯(lián)系

      廈門超新芯科技有限公司

      福建

      產品規(guī)格型號
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      產品介紹

      程序升溫原位氣體反應系統(tǒng)是在標準的樣品臺基礎上搭建可視化NONA-LAB和四電極反饋控溫模塊,在透射電鏡中實現(xiàn)樣品的氣氛環(huán)境皮米級高分辨成像和精準、均勻、安全控溫,溫度精度優(yōu)于±0.1K,**溫度1000℃,**氣壓2000mBar。通過精確的熱場模擬及獨特的芯片設計,實現(xiàn)無漂移加熱過程,可在加熱升溫過程中實現(xiàn)實時觀測成像。原位氣氛反應納流控安全管理系統(tǒng)實現(xiàn)納升級別流體引入,高效精確控制氣體池中的流體的流速流量,*低為10nL/s,引入流體在極其微量級別,即使在芯片窗體薄膜破裂的情況下,也不會有大量氣體滲漏,使得電鏡的安全得以保證,實驗不受影響可持續(xù)進行。

      獨特優(yōu)勢

      原子級分辨率

      a.超薄氣夾層(100-200nm

      b.超薄氮化硅膜(可達10nm

      溫控精確

      a.四電極形成反饋控制系統(tǒng),控溫準

      b.觀測區(qū)域全覆蓋,升溫快且均勻

      安全性高

      a.防腐多路精確控制氣體混合

      b.納流控系統(tǒng)防滲漏

      系統(tǒng)規(guī)格

      溫度范圍RT~1000
      氣體模式靜態(tài)或流體
      窗口膜厚10nm, 25nm, 50nm
      氣體池厚度100~200nm
      芯片管路一進一出
      外部管路1-41
      壓力范圍

      0~2000mBar

      適用氣氛H2, He, N2, O2, Ar, H2O, CO,CO
      溫度精度≥95%
      加熱均勻性≥99.5%
      加熱電極數4
      (HR)TEM/STEM
      (HR)EDS/EELS
      適用電鏡FEI, JEOL, Hitachi
      適用極靴ST,XT,T,BioT,HRP,HTP,CRP

      應用實例

      PbSe納米粒子暴露在少量空氣中形貌變化原位觀測X. Peng et al., In Situ TEM Study of the Degradation of PbSe Nanocrystals in Air. Chemistry of Materials 31, 190-199 (2019).

      售后服務

      1、設備運抵現(xiàn)場,我方技術人員同時到達,一同開箱檢驗,并提供有關設備的搬運、倉儲、注意事項的技術咨詢服務;

      2、設備進行安裝調試階段,我方技術人員到現(xiàn)場協(xié)助安裝調試,及時處理安裝過程中所遇到的問題,確保系統(tǒng)成功使用;

      3、合同要求提供產品使用、維護說明書,設備的原理圖、接線圖、施工圖等技術資料及備品。建立售后跟蹤,及時了解設備運行情況、接受用戶的報修、投訴、以便及時安排技術人員解答或趕赴現(xiàn)場;

      4、加強與用戶的聯(lián)系,重視用戶的意見,制定各用戶的質量跟蹤信息卡制度,健全用戶檔案,并且對產品進行回訪,了解設備的運行情況,以確保用戶長期安全可靠地使用我公司的設備。

      5、公司儲存充足的零配件,隨時滿足客戶單位對備品備件的要求。

      產品咨詢

      CHIP-NOVA程序升溫原位TEM氣體反應系統(tǒng)

      廈門超新芯科技有限公司

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