基于雙光子灰度光刻原理無掩模微納3D打印

- 適合于制造微光學衍射以及折射元件

Quantum X新型超高速無掩模光刻技術的核心是Nanoscribe****的雙光子灰度光刻技術（2GL®）。該技術將灰度光刻的**性能與雙光子聚合的精確性和靈活性**結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高端復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創新性的增材制造工藝大大縮短了企業的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業生產上的加工模具。

Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統技術要點

這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態聚焦定位達到精準同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的**性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高端復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。

技術參數

產地：德國全進口

打印技術：雙光子灰度光刻 （2GL)

三維橫向特征尺度：160nm

**分辨率：400nm

*小表面粗糙度：≤10nm

激光掃描速度：≤250mm/s

關鍵特性

高速的2.5維微納制造

光學質量表面和極好的形狀精度

亞微米級別加工滿足設計自由

超快調整控制打印體素大小，優化打印過程

自動化的打印流程，例如校正、打印和實時

監控 廣泛的基板-樹脂組合選擇

按任務順序連續進行打印

可觸摸屏和遠程電腦操控

納糯三維科技（上海）有限公司作為德國Nanoscribe獨資子公司擴大了亞太地區業務范圍，同時也加強了售后服務支持。