儀器簡介：

外延片PL譜掃描成像儀用于快速在線檢測發光二極管外延片的質量，主要用于發光二極管外延片和芯片生產線．生成高分辨率的圖譜和測定薄膜厚度等。本儀器為外延片生產工藝優化控制提供快速可靠的數據反饋．為高效高質量生產提供可靠保證。本成像儀現已成功應用于多條LED外延片生產線上。逐點掃描檢測計算機分析計算外延片的積分光強，主波長，峰值波長，光譜半寬等參數以繪圖形式顯示分布和數據截面分布囤，顯示單點光譜顯示各個參數的統計結果顯示選擇范圍的各項統計參數可進行局部掃描，并對掃描結果進行去孤立點和去邊處理采用白光反射譜測量薄膜厚度并以繪圖形式顯示分布和數據配備離線數據處理軟件本成像儀可靠。結構緊湊。全部檢測和數據處理由計算機自動完成。采用用戶友好的窗口界面，操作簡便。用戶僅需*小的培訓就可使用。另外可根據不同外延片，選配不同的激光器。

技術參數：

1 、光致發光樣品腔

10x M-Plan鏡頭顏色修正，波長范圍：350-1800nm

工作距離：30.5mm， 20mm FL， z軸可調

系統空間分辨率：10微米(1微米選配)

鏡子帶孔洞作為激光束及PL信號的通道

Iris光圈用于激光束的調整

可變ND過濾器用于激光能量的控制(99% to 2%)

10毫米孔洞PL信號校準鏡頭

馬達控制的XY臺，**速度30毫米/秒，1微米掃描分辨率

2 & 4外延晶片樣品盤

包括高分辨控制器和電纜

2、IG512近紅外光譜儀，900-1700nm， 512像素， InGaAs陣列

25um x 500um像素尺寸，14bits， 2.5MHz數字轉換器， f/4， 40mm FL

探測范圍：900nm全譜，300gr/mm， 1um blaze grating

包括SMA905， 400um多模光纖，1米長

3、EPP2000-VIS(350-1150nm)用于紫外-可見光，衍射光柵光譜儀

f/4， symX-Czerny-turner類型

分辨率：1.6nm (50um狹縫，@600gr/mm grating)

包括2048像素CCD探測器，12bit數字轉換器

600gr/mm grating

接口：USB-2&平行

SMA905光纖光學輸入，0.22NA，400um多模光纖，1米長

主要特點：

儀器特點

高品質及中等價位的PL掃描系統(高性價比)；

波長范圍寬廣(UV-VIS-NIR， 350nm to 2.2um)；

噪聲低，高PL信號探測；

設計緊湊，易于調諧；

各種激發激光源可選；

易于發現峰及FWHM；