150T Plus為緊湊的分子渦輪泵鍍膜系統，適合SEM、TEM及許多薄膜應用。

150T Plus 集成了濺射和碳蒸鍍兩種沉積鍍膜功能的高分辨鍍膜系統

新款改進

● 觸摸屏更換成便于操作的電容觸摸屏

● 固件更新，新版操作界面類似安卓系統，便于客戶上手

● 新的彩色LED可視狀態指示燈

● 雙核ARM處理器，可快速響應

● USB接口可以用于固件更新，并可將鍍膜方案文件備份/復制到USB存儲設備

● 可以通過USB端口以.csv格式導出過程日志文件，以便統計分析

主要特點:

●金屬濺射或碳蒸發一體化設計，節省空間

●適合FE-SEM制樣的精細鍍膜和薄膜應用

●渦輪分子泵高真空系統，適合不氧化貴金屬和易氧化其它金屬靶材

●全自動觸摸屏控制，快速數據輸入，操作簡單

●可儲存多個客戶自定義鍍膜方案：對多用戶實驗室十分理想

●預編程自動真空控制

●使用膜厚監控選件精確控制膜厚

●智能系統識別，自動感知用戶所插入鍍膜頭的類型

●高真空碳蒸鍍，對SEM和TEM鍍碳膜應用非常理想

●先進的碳棒蒸鍍槍設計和電流控制技術，操作簡單，重現性好

● Drop-in式快速換樣品臺（標配旋轉臺）

●真空閉鎖功能，讓工作腔室在待機使用時亦處于真空狀態

●不破壞真空條件下的濺射時間可長達60分鐘，適合材料科研應用

●人體工程學設計，整體成型機殼，維護、拆裝容易

技術參數:

●工作腔室：165mm外徑 x 127mm高

●觸摸屏全圖像用戶界面

●靶材：標配直徑57mm x 厚0.3mm Cr靶

●樣品臺：標配旋轉臺，直徑60mm，轉速8-20 rpm ，可選配旋轉傾斜臺。

●真空系統：

渦輪分子泵：帶有空氣冷卻的渦輪分子泵

旋轉機械泵：雙程旋轉機械泵

●極限真空度：5 x 10-5mbar

●濺射真空度： 5 x 10-3 到 5 x 10-1mbar之間

●濺射電流：0-150mA；可預設膜厚或使用內置定時器（選配）

●濺射時間：*長60分鐘

●碳蒸發：穩定的無紋波直流電源控制的脈沖蒸發，確保碳棒可重復蒸碳，電流脈沖1~90A。

●尺寸和重量：儀器機箱585mm寬x 470mm長 x 410mm高 (總高: 650mm)