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      面議

      品牌:

      拉普拉斯

      型號:

      Bhadra?立式

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      產品介紹

      型號

                                         

                                 Bhadra?立式LPCVD BHC200


      功能

      • 氮化硅/氧化硅/多晶硅(Poly-Si)/非晶硅(α-Si)薄膜沉積

      • 適用于功率半導體/襯底材料 

      重要參數

      • **晶圓尺寸:8寸及以下晶圓

      • **載片量:125片/批

      • **加熱溫度:1050℃

      • 成膜種類:根據不同工藝要求工藝源可選配 

      裝卸片方式

      • 立式垂直升降

      • 垂直真空密封系統 

                  優勢
      • 先進的壓力控制技術

      • 五區高精度溫度場控制

      • 先進的顆粒控制技術

      • 先進微環境氧含量控制

      • 穩定的傳輸控制能力

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