粉體行業(yè)在線展覽
CPI
面議
CPI
380
適用于2寸、3寸、4寸、6寸、8寸等多種尺寸晶圓的純化學(xué)拋光
夾具可選擇搭配不同重量的配重塊,適用于不同材料的拋光工藝需求
拋光后粗糙度變化值ΔRa≤±2nm
夾板、夾具、偏心距等可根據(jù)客戶需求訂制
機(jī)身小巧,方便拆裝
配備遠(yuǎn)程操作系統(tǒng)
幾乎為零的機(jī)械作用力實(shí)現(xiàn)無橘皮無劃痕效應(yīng)
采用先進(jìn)防腐材料和結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),達(dá)整機(jī)超強(qiáng)防腐
Qgrind 100
Chiron 250DA
搓擦機(jī)
SMAP-Ⅱ
ED16B
GPW/GAWseries
金相試樣磨拋機(jī)
MECPOL-PA進(jìn)口自動(dòng)磨拋機(jī)
SiC CMP拋光設(shè)備
PG6鏡面拋光機(jī)
雙面研磨/拋光6S、9B、9.6B系列
GY-XB70下擺機(jī)