粉體行業(yè)在線展覽
CDP-800
面議
CDP-800
425
拋光頭可實現(xiàn)3 zone壓力控制
全系列機型可加工2-8寸及異形晶圓
納米級別移除精度
拋光粗糙度、速率、一致性行業(yè)**
具備精準的光學EPD終點檢測功能
拋光頭壓力可調制高達12psi
可編輯和儲存至少100條以上工藝菜單
可實現(xiàn)盤溫監(jiān)控、自動冷卻、自動沖洗
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037