Polaris 系列PVD金屬薄膜物理氣相沉積系統(tǒng)主要由真空傳輸平臺(tái)，去氣腔室，預(yù)清潔腔室和工藝腔室組成，設(shè)備采用Cluster Tool架構(gòu)，可配置多個(gè)工藝腔室、預(yù)清洗腔室和去氣腔室，適用于科研領(lǐng)域。Polaris 系列PVD為全自動(dòng)大產(chǎn)能設(shè)備，具有wafer自動(dòng)傳輸，工藝去氣，晶片表面預(yù)清潔、薄膜沉積完全自動(dòng)化等特點(diǎn)。

設(shè)備特點(diǎn)

?多種材料膜層工藝能力，低損傷，高深寬比填充能力

?獨(dú)立工藝腔室，*多可支持6個(gè)工藝模塊

?優(yōu)異的溫度，顆粒控制能力

?配置靈活、大產(chǎn)能、低運(yùn)營成本

產(chǎn)品應(yīng)用

?品圓尺寸：6、8 英寸

?適用材料：銀、鎢化鈦、金、鉑、鈦、氮化鈦、鋁等

?適用工藝：金屬電極、背面金屬化工藝等