粉體行業在線展覽
第三代半導體外延設備
面議
新益昌海威
第三代半導體外延設備
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第三代半導體外延設備
機型:QDE系列
外延設單腔/多片(**3×8Inch)+潔凈真空機械手搬運, ?各盤獨立控溫,控溫精度高; ?水平層流布氣+分子泵排氣,控制氣體分布均勻; ?工藝進程實時監控,精準控制參數;
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037