機(jī)型：XHEB系列

精密光學(xué)電子槍蒸鍍系統(tǒng)專門為精密光學(xué)薄膜器件鍍膜而設(shè)計(jì)，各系統(tǒng)設(shè)計(jì)和整體結(jié)構(gòu)滿足光學(xué)薄膜生產(chǎn)工藝要求

設(shè)備特點(diǎn)

?真空指標(biāo)：極限真空：5.0E-5Pa（潔凈空載、有傘架、有護(hù)板、無基板情況下） 抽空時(shí)間：大氣至3.0E-3Pa≦15min 真空壓升率：≦0.5Pa/h（潔凈空載、抽空至極限真空后開始測(cè)試） ?烘烤指標(biāo)：**溫度300℃，多點(diǎn)控溫，測(cè)溫準(zhǔn)確，PID智能溫控系統(tǒng)，溫度可控可調(diào)。 ?光學(xué)實(shí)時(shí)監(jiān)控：先進(jìn)的光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)，通過安裝在腔內(nèi)的監(jiān)控組件，實(shí)時(shí)監(jiān)控E-beam傘頂上基片的厚度并反饋回系統(tǒng)，通過饋入反饋信息控制成膜系統(tǒng)，達(dá)到實(shí)時(shí)監(jiān)控修正膜厚的目的。 ?成膜系統(tǒng)：270°E型雙電子槍蒸發(fā)源，配備擋板，水冷坩堝有環(huán)形和多穴位坩堝可供選擇。IAD離子輔助成膜，提高光學(xué)膜層特性、改善基片表面活性及附著力等。