粉體行業(yè)在線展覽
12吋薄膜沉積設(shè)備 PECVD-ZARVIS
面議
盛吉盛
12吋薄膜沉積設(shè)備 PECVD-ZARVIS
490
ZARVIS應(yīng)用于邏輯和存儲客戶的多個節(jié)點制程,優(yōu)良的結(jié)構(gòu)設(shè)計使腔體有高真空的密閉環(huán)境,工藝氣體分布均勻,等離子體穩(wěn)定,高效率RPS(Clean)和均勻的加熱功能等特點。
Sharpla600 系列缺陷檢測設(shè)備
U380S 系列缺陷檢測設(shè)備
缺陷檢測設(shè)備 U315 系列
PVD-Auroflux6/8吋薄膜沉積設(shè)備
CVD-Quadiance6/8吋薄膜沉積設(shè)備
6/8吋薄膜沉積設(shè)備 CVD-Expediance
RTA-Brispark12吋快速熱處理設(shè)備
12吋快速熱處理設(shè)備 RTP-XPEED-IDP
12吋薄膜沉積設(shè)備
12吋薄膜沉積設(shè)備 PECVD-ZARVIS
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設(shè)備
等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037