粉體行業在線展覽
<abbr id="epdyr"></abbr>
粉體行業在線展覽
磁控濺射鍍膜設備
直接聯系
研博智創任丘科技有限公司
河北
面議
研博智創
磁控濺射鍍膜設備
467
特點/用途： 磁控濺射鍍膜設備體積小，真空獲得快，功能強大，使用成本低；PLC觸摸屏控制，操控方便該設備標配1只平面靶，另預留1對蒸發電極接口，能夠濺射蒸發兩用（磁控濺射與蒸發鍍不能同時進行）； 磁控濺射鍍膜設備主要用來開發納米級導電膜、半導體膜、絕緣膜等，基片臺加負偏壓可實現基片反濺清洗功能;非常適合于大專院校的教學、科研之用。
JGCF350金剛石顆粒鍍膜設備
粉體鍍膜涂層設備 JGCF650
真空升華提純爐 VDS40/80
真空電弧爐 VDK250
高真空退火爐 VTHK550
高真空退火爐 VTHK350
高真空電子束蒸發鍍膜機 TEMD500
高真空電子束蒸發鍍膜機 TEMD600
高真空有機/金屬蒸發鍍膜機 ZHDS400
高真空電阻蒸發鍍膜機 ZHD300
高真空電阻蒸發鍍膜機 ZHD400
高真空有機金屬蒸發鍍膜機ZHD350
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037
