一、整機(jī)簡述 其主要用途有： 1. 適用于鍍制低熔點(diǎn)金屬及合金材料薄膜，單層/多層/復(fù)合膜，例：銅、鋁、金、銀、鋇、鉍、鋅、銻等； 2. 適用于鍍制非金屬/化合物等材料薄膜；例：氧化鉬、氟化鋰等； 3. 適用于有機(jī)材料蒸發(fā)； 4. 適用于掃描電鏡制樣； 5. 適用于太陽能電池、LED的研究和實(shí)驗(yàn)。 二、設(shè)備主要技術(shù)參數(shù) 1.真空腔室 Φ300×H360mm，304優(yōu)質(zhì)不銹鋼真空腔室； 2.真空系統(tǒng) 復(fù)合分子泵+直聯(lián)旋片泵+高真閥門高真空系統(tǒng)，數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)； 3.真空極限 ≤8.0×10-5Pa；（設(shè)備空載抽真空24小時(shí)）； 4.漏率 設(shè)備升壓率：≤0.8Pa/h； 設(shè)備保壓：停泵12小時(shí)候后，設(shè)備真空度≤10Pa； 5.抽速 從大氣抽至5.0×10-3Pa≤13min；（設(shè)備空載）