一、整機簡述 特點/用途 ZHDS400型高真空有機/金屬蒸發鍍膜機是納米薄膜沉積系統與手套箱系統的有機結合，該設備可在惰性氣體保護的環境下完成裝片、裝料及換料取片等工作，并且由于采用惰性氣體的工作環境及無油真空系統使鍍膜機可更快的到達高真空，獲得潔凈的真空環境；本設備共配置4組蒸發源，組合配置靈活，具備單層蒸鍍、多源共蒸、分層鍍膜等功能。 蒸發鍍膜與手套箱環境無縫對接融合，實現蒸鍍、封裝、測試等工藝無縫對接，穩定性更高。廣泛應用于有機、無機鈣鈦礦太陽能電池、鋰電池及OLED薄膜等研究系統；納米薄膜光電子器件制備及生產線前期工藝試驗等。

二、設備主要技術參數 1.有機/金屬鍍膜室 鍍膜室尺寸：L400mm×W440mm×H450mm；SUS304不銹鋼制作，方箱式，配有前、后門，前門水平滑開式，材質為鍛鋁，便于手套箱內操作；后門為側開門，便于設備清理維護；特點：鍍膜室配置獨立機架，可在脫離手套箱條件下單獨調試和使用，與手套箱之間通過鍍膜室前門框密封連接，對接方便、密封可靠； 2.真空系統 復合分子泵+直聯旋片泵+高真空插板閥高真空系統，“兩低一高”數顯復合真空計； 3.真空指標 極限真空：優于5.0×10-5Pa；(設備和手套箱分體，設備空載抽真空24小時) 抽速：從大氣抽至8.0×10-4Pa≤40min； 設備升壓率：≤0.8Pa/h； 設備保壓：停泵12小時候后，設備真空度≤10Pa； 4.基片臺 抽屜式結構，承載小于120×120mm基片； 配有氣動基片臺擋板； 基片臺電機驅動，旋轉速度0～20轉/分鐘可調； 手動升降，升降基片臺可調節范圍70mm； 可根據用戶要求定制掩膜板1套； 5.基片臺加熱 加熱溫度：300℃，PID智能溫控閉環控制； 6.蒸發源 ①金屬源：水冷銅電極2組； 逆變式蒸發電源：功率3000W；1臺（1臺電源可切換2組蒸發源）； ②有機源：控溫有機蒸發源（溫度600°），2組； 有機蒸發源特點：角度向心可調（提高材料利用率，均勻性好），蒸發速率可控； 有機控溫蒸發電源：2套（獨立PID智能溫控蒸發）； ③蒸發源配氣動擋板及源間防污隔板；  7.膜厚控制系統  選配  8.控制方式  采用PLC+觸摸屏半自動控制；  9.報警及保護  對泵、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警并執行相應保護措施；完善的邏輯程序互鎖保護系統。  10.占地面積 L4800mm×W1600mm×H1900mm（含1.8米手套箱）