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粉體鍍膜涂層設備 JGCF650
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粉體鍍膜涂層設備 JGCF650
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一、產品概述 1、適用范圍: 在微米級以上粉體顆粒表面沉積各種納米級單層及多層導電膜、半導體膜、絕緣膜等; 可用于粉體顆粒表面金屬化,由顆粒表面絕緣性質通過在表面涂覆金屬層達到表面導電,例:碳化硅表面鍍鈦,氧化鋁表面鍍鎳等; 可用于粉體顆粒表面反射率的改變,應用于化妝品、汽車等高端外觀粉體涂料,例:玻璃微珠鍍氧化鈦等; 可用于粉體顆粒表面層成份改變,應用于新型合金材料改變其中某一成份含量; 可用于粉體顆粒表面沉積新材料,有效提高粉體固化粘結強度,例:金剛石粉鍍鉻等。 2、產品特點: 該設備粉體顆粒涂覆技術先進,微米級粉體包覆率大于90﹪,結合力好;已能實現產品系列化滿足科研及批量化生產之需求。 二、技術參數
JGCF350金剛石顆粒鍍膜設備
粉體鍍膜涂層設備 JGCF650
真空升華提純爐 VDS40/80
真空電弧爐 VDK250
高真空退火爐 VTHK550
高真空退火爐 VTHK350
高真空電子束蒸發鍍膜機 TEMD500
高真空電子束蒸發鍍膜機 TEMD600
高真空有機/金屬蒸發鍍膜機 ZHDS400
高真空電阻蒸發鍍膜機 ZHD300
高真空電阻蒸發鍍膜機 ZHD400
高真空有機金屬蒸發鍍膜機ZHD350
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037