粉體行業(yè)在線展覽
尾氣處理設備
面議
上海至純
尾氣處理設備
1136
主要應用于泛半導體行業(yè)的生產(chǎn)工藝 處理 酸性,堿性,可燃,脫硫 及 一些特殊氣體。其中采用干式吸附處理原理 不需要用水,徹底杜絕氣體反映源;一備一用 閥門采用 手/自動一體切換的設計;采用進口吸附劑原料配比 吸附效率高 , 延長周期 設備使用壽命長等特點,其中設備 及 吸附藥劑 自主國產(chǎn)化,品質(zhì)保障且交期快,客戶滿意度高。
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037