粉體行業在線展覽
半自動/全自動接觸式光刻機
面議
科毅科技
半自動/全自動接觸式光刻機
415
項目 | 參數 |
曝光光源 | 350W、500W、1KW、2KW汞燈/UV-LED |
晶圓尺寸 | 2”-12” |
均勻性 | ≤ ±3% 和 ≤±5% |
對準精度 | ±1μm(選配±0.5μm) |
分辨率 | ±1μm(選配±0.8μm) |
產能 | ≥70wph |
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037