ION WAVE 10 批次等離子系統

與射頻等離子體相比，微波會產生更高密度的等離子體（離子/基團）和更低的基板感應偏壓。由于這一事實，預計微波等離子體中光刻膠的灰化率更高，等離子體損傷更低。IoN Wave 10 等離子系統專為研發和小規模生產應用而設計。PVA TePla 是一種經過驗證且值得信賴的全球資源，可提供高質量、可靠、經濟高效且易于操作的氣體等離子系統。它為各種應用提供了一些***和創新的解決方案。

典型應用

光刻膠灰化和除渣

在較低溫度下去除SU-8

鈍化層蝕刻

設備解封

表面清潔

表面活化

功能包括：

小腳印桌面設計

即插即用自安裝

帶液晶觸摸屏和鍵盤的工業計算機。基于Windows 的操作系統

圖形用戶界面(GUI) 軟件符合CFR Title 21 Part 11 和Semi E95-1101

多級用戶訪問

軟件用于快速和多功能步驟控制的配方編輯器

板載診斷功能和報警記錄

通過以太網進行遠程過程監控

基于網絡的在線模擬/培訓/支持