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      OAI Model 212紫外光刻機

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      OAI Model 212型桌面掩模對準系統

      。輸出光譜范圍:Hg: G(436nm),H(405nm),I(365nm)和310nm,Hg-Xe: 260 nm和220 nm或LED:365 nm、395 nm和405 nm

      。燈功率范圍從1000到5000 w

      。選擇UVLED (365 nm和405 nm)光源

      。基片尺寸范圍從12“dia平方

      。特殊12“x 12”和3毫米厚玻璃基板

      ?;Q拋擲和面具

      。空氣軸承真空吸盤

      。接近(15-20umgap): & lt; 3.0 - 5.0,柔軟觸點:2.0um,硬觸點:1um和真空接點:≤0.5um

      。對齊模塊X, Y,和Z軸和θ

      。雙通道光學反饋

      。只提供正面接觸w / IR選項

      。僅在桌面選項可用,適用于研發和獨立的工作

      。占用空間小

      。適用于生物學、微機電系統、半導體和Microfludics CLiPP應用程序

      Model 212 Table Top Mask Aligner System

      。 Output Spectra Range: Hg: G (436nm), H (405nm), I(365nm) and 310nm lines, Hg-Xe: 260nm and 220nm or LED: 365nm, 395nm and 405nm

      。 Lamp Power range from 1000 to 5000W

      。 Option for UVLED (365nm and 405nm) Light Source

      。 Substrate sizes range from 12” dia to sq

      。 Special 12” x 12” and up to 3mm thick Glass Substrates

      。 Interchangeable chucks and mask holders

      。 Air bearing vacuum chuck

      。Proximity (15-20umgap ): <3.0 – 5.0um, Soft Contact: <2.0um, Hard contact: 1um and vacuum contact : ≤ 0.5um

      。 Alignment module X, Y, and Z axis and theta

      。 Dual-channel optical feedback

      。 Provides Front side exposure only w/ IR Option

      。 Available in Table top option only and applicable for R&D and standalone work

      。 Small Footprint

      。 Applicable for Biology, MEMS, Semiconductor and Microfludics, CLiPP applications

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