粉體行業在線展覽
紅外半導體打標機
面議
前景半導體
紅外半導體打標機
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技術特點:
光束質量好,可實現高品質打標應用。
高峰值功率,加工效率高。
可加工材質廣泛,性價比高。
整機性能穩定,體積小,功耗低,可長期穩定運行。
采用進口激光器,性能穩定,可連續工作,重復定位精度高。
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037