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      >科研級磁控濺射設備—MS-700

      科研級磁控濺射設備—MS-700

      科研級磁控濺射設備—MS-700

      直接聯系

      合肥致真精密設備有限公司

      安徽

      產品規格型號
      參考報價:

      面議

      品牌:

      致真精密

      型號:

      科研級磁控濺射設備—MS-700

      關注度:

      1412

      產品介紹

      MS-700磁控濺射設備是一款具有多功能、多陰極的磁控濺射系統,具有超高真空,單原子層沉積精度的特點。可根據需求配置4inch以下的圓形陰極,可選擇垂直濺射、自動傳輸、反應濺射、膜厚測量等配置。適用于研發和生產需要多靶濺射的中高精度的工藝需求。

      性能參數

      晶圓尺寸

      4inch-6inch

      鍍膜均勻性

      優于±2%

      極限真空

      優于5×10-10mbar(金屬密封)

      優于5×10-9mbar(膠圈密封)

      溫控

      RT-800℃,可選**1200℃

      陰極數量

      12個2inch 或  6個4inch,共焦濺射

      電源

      DC、RF、DC Pulse

      沉積精度                    

      0.1nm

      占地面積

      4m L*3m W*2.5m H

      可選

      低溫泵、垂直濺射、自動傳輸、反應濺射、膜厚儀、RGA、工藝菜單等


      產品咨詢

      科研級磁控濺射設備—MS-700

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