粉體行業(yè)在線展覽
晶圓真空傳輸平臺(tái)—VTM
面議
致真精密
晶圓真空傳輸平臺(tái)—VTM
1864
晶圓真空傳輸平臺(tái)采用四邊形、六邊形或八邊形設(shè)計(jì),可以實(shí)現(xiàn)多個(gè)工藝室的互聯(lián),系統(tǒng)可選配機(jī)械臂和校準(zhǔn)裝置,可實(shí)現(xiàn)8或12吋晶圓的自動(dòng)傳輸。系統(tǒng)搭配控制軟件可實(shí)現(xiàn)安全可靠的控制。
性能參數(shù)
晶圓尺寸 | 8或12吋 |
| 極限真空 | 優(yōu)于5×10-7mbar |
| 前端模塊 | 可選EFEM等 |
| 對(duì)接口 | 四個(gè),六個(gè),八個(gè)(可實(shí)現(xiàn)多套互聯(lián)) |
| 機(jī)械臂 | 可選單臂和雙臂,定位精度±0.1mm |
| 校準(zhǔn)裝置 | 對(duì)準(zhǔn)器,校準(zhǔn)傳感器 |
| 真空系統(tǒng) | 機(jī)械泵+分子泵,可選離子泵等 |
| 控制系統(tǒng) | PC+PLC 安全互鎖,碰撞保護(hù),真空互鎖等 |
| 標(biāo)準(zhǔn) | SEMI |
產(chǎn)品咨詢(xún)
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觀察窗擋板
傾斜式高溫樣品臺(tái)
蒸發(fā)源
圓形互聯(lián)設(shè)備(外置機(jī)械臂、內(nèi)置機(jī)械臂)
兩個(gè)鍍膜系統(tǒng)直接互聯(lián)設(shè)備
超高真空管道傳輸設(shè)備
晶圓真空傳輸平臺(tái)—VTM
量產(chǎn)型磁控濺射設(shè)備—MSI-200
生產(chǎn)型磁控濺射設(shè)備—MSI-100-UHV
生產(chǎn)型磁控濺射設(shè)備—MSI-100-HV
量產(chǎn)級(jí)多功能薄膜沉積設(shè)備
分子束外延設(shè)備—MBE-400