儀器簡介：

歐洲先進的無掩膜激光直寫系統，*小線寬可達 100nm，為MEMS， BioMEMS， Micro Optics， ASICs， Micro Fluidics， Sensors， CGHs等以及相關微納米結構領域的科研工作者，提供強有力的手段！

技術參數：

加工線寬：*小可達 100nm；

主要特點：

多種曝光模式：

2D曝光模式：構建二維納米結構；

3D曝光模式：可加工三維納米結構；

壓電驅動平臺配合精密自動驅動平臺，具有更高的水平定位分辨率；

系統自動聚焦、糾斜、對準；

多功能試樣夾具；

快速樣品樣品更換：<1秒；

專業圖形設計軟件：支持導入CAD設計軟件，2D和3D隨意簡單設計；