粉體行業在線展覽
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粉體行業在線展覽
氧化鎵專用晶體生長設備
直接聯系
杭州鎵仁半導體有限公司
浙江
面議
杭州鎵仁
氧化鎵專用晶體生長設備
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產品特性
產品概述
鎵仁半導體可提供高質量氧化鎵專用長晶設備
技術參數
晶體生長爐設備指標
**工作溫度：1820℃；
高溫工作氣氛：大氣環境（O2濃度 ≈ 21%）；
連續工作時長：≥100h ，確保完成一爐晶體生長；
晶體生長段溫度梯度：≈10 ℃/cm；
晶體生長速度：0.2 ~ 4 mm/h。
高溫工藝段控溫精度：≤ ±0.2 ℃
全溫度段控溫精度：≤ ±0.3 ℃
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
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