粉體行業(yè)在線展覽
微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— A型
面議
華宇東升
微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— A型
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微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— A型 一款典型的微波等離子體化學(xué)氣相沉積裝置,可以在50mm直徑的襯底范圍內(nèi)進行金剛石單晶和多晶生長。 應(yīng)用領(lǐng)域:工具、熱沉、光學(xué)窗口、寶石等。
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性能特點:
?**功率達(dá)到6kW ?微波反應(yīng)腔新型設(shè)計,功率密度大 ?產(chǎn)品沉積速率快、沉積質(zhì)量高 ?采用水冷全金屬腔體 ?采用高效散熱的樣品臺 ?設(shè)備安全性高、耐用性高、可靠性強 ?多參數(shù)實時監(jiān)測,PLC屏幕控制,簡捷的人機交互界面 |
主要技術(shù)參數(shù):
| 微波功率 | 0.6kW -6kW 連續(xù)可調(diào) 2.45GHz |
| 反應(yīng)腔 | 圓柱形反應(yīng)腔 |
| 真空漏率 | ≤5×10-10Pa·m3/s |
| 氣體質(zhì)量流量控制 | 標(biāo)配5路,可定制 |
| 工作氣壓 | 1kPa - 30kPa |
| 樣品臺 | 一層升降 |
| 基板臺類型 | 水冷式基板臺 |
| 襯底托 | **支持60mm直徑圓臺面積穩(wěn)定沉積 |
| 操作系統(tǒng) | PLC控制系統(tǒng) |
| 樣平臺升降功能 | 有,可選 |
| 樣品臺旋轉(zhuǎn)功能 | 有 |
| 旋轉(zhuǎn)模式 | 連續(xù)旋轉(zhuǎn)、間歇旋轉(zhuǎn) |
| 旋轉(zhuǎn)角度 | 360° |
| 旋轉(zhuǎn)速度 | 0-20轉(zhuǎn)/分,可調(diào)節(jié) |
MPCVD設(shè)備培育的CVD晶種
高穩(wěn)定程控微波源
微波傳輸系統(tǒng)
微波等離子體火炬(MPT)
微波等離子體源
電子回旋共振等離子體(ECR)系統(tǒng)
微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— C型
微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— B型
微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— A型
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037