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微波等離子化學氣相沉積（MPCVD）系統 —— C型

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成都華宇東升微波設備有限公司

四川

產品規格型號

參考報價：

面議

品牌：

華宇東升

型號：

微波等離子化學氣相沉積（MPCVD）系統 —— C型

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1917

產品介紹

微波等離子化學氣相沉積（MPCVD）系統

—— C型

一款先進的碟形腔體微波等離子體化學氣相沉積設備，可應用于單晶金剛石和多晶金剛石薄膜、類金剛石薄膜的化學氣相沉積以及材料表面處理、改性及摻雜等相關研究工作。

微波輸入采用下饋的方式，為腔體結構的優化提供了更大的空間。

該設備可以在相對大面積的襯底上進行單晶和多晶金剛石生長，具備平面和非平面金剛石（HDC）的生長能力。其中，單晶金剛石沉積厚度上限不低于6mm，多晶金剛石沉積厚度上限不低于500μm。

性能特點：

?采用高效散熱的樣品臺

?產品沉積速率快、沉積質量高

?穩定的微波輸入

?**功率達到10kW

?性能先進，安全、可靠性強、重現性好

?多參數實時監測、多重聯鎖保護與報警

?為用戶提供沉積工藝解決方案

主要技術參數：

微波源	6kW或10kW可選，2.45GHz
反應腔	碟形反應腔，可承載微波功率＞10kW
反應腔打開方式	揭蓋式或升降式，可選
微波饋入方式	腔體下方
微波泄露	＜1mW/cm²
極限真空度	＜5×10^-4Pa
真空漏率	＜5×10^-10 Pa·L/s
氣體質量流量控制	標配5路，可定制
工作氣壓	0.8kPa - 40kPa
基板臺類型	水冷式基板臺
標準襯底托	65mm、75mm、85mm直徑圓臺面積穩定沉積
樣品臺升降功能	有，可選
樣品臺旋轉功能	有，可選；旋轉模式：連續轉動、間隙轉動；旋轉角度：360°；旋轉速度：0~20轉/分，可調節
非平面（球面）金剛石樣品臺	可選
操作系統	PLC控制系統
單次連續工作時間	＞300h

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微波等離子化學氣相沉積（MPCVD）系統 —— C型

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