NMC 508M為高密度等離子體刻蝕機，適用6/8英寸金屬干法刻蝕工藝。具備良好的鋁線形貌控制能力、高刻蝕速率、高刻蝕均勻性、低顆粒/缺陷等性能優勢。該機臺為多腔室集群設備，含金屬腔和去膠腔組合，可全自動并行工藝，PM維護周期長，性能穩定，產能高，客戶擁有成本低 。已廣泛量產應用于集成電路、化合物半導體、功率半導體、硅基微型顯示、科研等領域中的金屬鋁、鎢等刻蝕工藝。
設備特點
?可調節的等離子體源設計，精確的離子能量控制
?金屬刻蝕能力優，工藝應用廣泛
?量產穩定，高MTBC
?低擁有成本、低運營成本
產品應用
?晶圓尺寸：6/8英寸兼容
?適用材料：鋁、氮化鈦、鉬、鎢、氧化銦錫等
?適用工藝：頂層金屬刻蝕、中間層金屬刻蝕等
?適用領域：集成電路、化合物半導體、功率半導體、硅基微型顯示、科研領域