設備規格

襯底尺寸：標準尺寸：200mm Dia (8 inch）（可定制)
工藝溫度：溫度范圍：RT~500°C （可定制）
前驅體路數：**支持6路前驅體氣路（可定制)，包含固、液態前驅體源瓶

加熱系統：可加熱溫度范圍：RT~150℃

反應物路數：支持2路反應物氣路（可定制）
載氣：標準：N2, MFC 流量控制（可定制）

等離子體系統：支持4路等離子體氣體（可定制）

射頻功率：0~1000W
壓力監測：雙薄膜規組合（耐腐蝕)，0.005Torr - 1000Torr
本底真空度：<5x10-3 Torr
真空系統：標準油泵

控制系統：19寸顯示器，支持觸控工業級嵌入式工控機，高可靠性，支持擴展
操作系統：Win7 操作系統，工業級可編程邏輯控制器，支持現場總線與實時多任務處理操作

高溫加熱模塊：獨立的源瓶加熱模塊，可支持RT~200℃