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      鵬城半導體技術(深圳)有限公司

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      產品規格型號
      參考報價:

      面議

      品牌:

      鵬城半導體

      型號:

      PECVD設備

      關注度:

      1528

      產品介紹

      PECVD設備(等離子體增加強化學氣相沉積PECVD)主要用于在潔凈真空環境下進行氮化硅和氧化硅的薄膜生長;采用單頻或雙頻等離子增強型化學氣相沉積技術,是沉積高質量的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工藝設備。


      設備用途和功能特點

      1、該設備是高真空單頻或雙頻等離子增強化學氣相沉積PECVD薄膜設備,主要用于制備氮化硅和氧化硅薄膜。

      2、設備保護功能強,具備真空系統檢測與保護、水壓檢測與保護、相序檢測與保護、溫度檢測與保護。

      3、配置尾氣處理裝置。


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