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      >ASI J200 TANDEM復合系統

      ASI J200 TANDEM復合系統

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      北京恒天科力科技發展有限公司

      美國

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      產品介紹

      簡介

      美國應用光譜公司 (Applied Spectra Inc.)專注研究激光剝蝕和光譜分析技術的高技術公司。 研發人員均為美國勞倫斯伯克利國家實驗室的研究人員。 公司總裁Richard Russo 博士為美國勞倫斯伯克利國家實驗室的資深科學家, 從事激光剝蝕及激光光譜元素分析技術三十多年, 創造性的將激光剝蝕技術 (Laser Ablation, LA) 及激光誘導擊穿光譜(Laser Induced Breakdown Spectroscopy, LIBS)相融合, 研發了J200系列激光剝蝕進樣系統及光譜分析系統。

      J200 納秒激光剝蝕及激光誘導擊穿光譜復合系統實現了LIBS與LA-ICP-MS的同時測量,并具備多種測量功能: 可測量常量, 微量和同位素 (與ICP-MS串聯);分析有機元素及輕元素; 元素三維空間分布;校正ICP-MS質譜信號。主要用于地質礦物,土壤,植物,合金,新能源材料 (例如鋰電池材料), 刑偵證據等樣品的剝蝕進樣及化學成分分析。

      J200激光剝蝕及激光誘導擊穿光譜復合系統可與市面上的四級杠質譜儀, 飛行時間質譜儀和高分辨質譜儀串聯使用。

      J200 LA-LIBS復合系統特色

      高穩定Q開關, 短脈沖Nd:YAG 激光 ,可選擇多波長 < 5 nsec at 213 nm ,創新的模組化設,為獨立 LA, LIBS, LA - LIBS 復合的系統設計。因分析需求,提供三種LIBS 檢測器選擇 ,激光剝蝕均勻且一致性的LA系統 。

      穩定激光能量的光閘設置

      高分辨雙CMOS相機系統, 可用于寬視野觀測樣品表面特征 。應用光譜公司的 Flex 樣品室內置氣體模組可優化氣流和顆粒清潔能力,滿足不同測量要求,先進的微集氣管設計,可盡可能的減少排氣,防止集結剝蝕顆粒,消除記憶影響。

      雙通道高精度質量流量控制器和電子控制閥

      Axiom LA 軟件系統

      軟件可整合控制硬件組件及ICP-MS 同pu步操作,輕松實現繁雜的激光采樣與分析模式 ,強大的數據分析工具用于繁雜的LIBS and LA-ICP-MS 串聯光譜分析,LIBS 化學計量法軟件分辨分類分析

      靈活的分析方法:全分析,夾雜物分析,斑點分析,深度分析和元素分映像

      維護成本低

      可擴充升級LA – LIBS 復合系統

      可擴充升級飛秒 LA 系統

      自動樣品高度調整功能

      J200激光剝蝕及激光誘導擊穿光譜復合系統采用ASI**技術:剝蝕導航激光和樣品高度自動調整傳感器相結合,解決了若樣品表面凹凸不平而剝蝕不均、導致元素含量值誤差大的問題;激光能量穩定閥確保了到達樣品表面的激光能量均勻,使所有采樣點的激光燒蝕均勻一致;3-D全自動操作臺**行程可達100mmx100mmx36mm,XY行程分辨率0.2μm,Z行程分辨率0.1μm, 優于其它任何同類產品。

      J200激光剝蝕及激光誘導擊穿光譜復合系統采用ASI**技術可對固、液、氣等樣品進行全元素LIBS快速檢測,同時可將固體樣品的剝蝕顆粒或者液體樣品直接送入ICP-MS系統,實現ppb級精確分析。彌補了ICP-MS不能測量部分輕元素的缺憾,也有效避免了ICP-MS分析中繁雜的樣品前處理過程及可能引入的二次污染。

      J200激光剝蝕及激光誘導擊穿光譜復合系統配置有高適連接口,輕松實現與市面上絕大多數主流品牌ICP-MS的聯用。

      J200激光剝蝕及激光誘導擊穿光譜復合系統配備有固體樣品室,還可根據用戶需求同時配置氣體、液體樣品室,并通過設置可自動切換的光路系統,實現固、液、氣體樣品室在同一系統中的自動化切換,測量過程中無需人為拆卸。

      J200激光剝蝕及激光誘導擊穿光譜復合系統配置:

      主機系統:包括激光器及控制系統,激光傳輸光學元件,樣品臺、樣品室、氣體管路系統等、樣品成像系統等;

      等離子體光譜檢測器:Czerny Turner光譜儀/ICCD相機、階梯光柵光譜儀/ICCD相機、同步4/6通道CCD光譜儀三種LIBS檢測器可選;

      軟件系統:系統操作軟件、數據分析軟件、TruLIBS發射光譜數據庫、化學統計軟件。

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      北京恒天科力科技發展有限公司

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