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氮化鉿;hafnium nitride HfN

性質:灰色粉末，立方晶結構。熔點3310℃，顯微硬度16GPa。相當穩定，但易為王水、濃硫酸、氟氫酸所腐蝕。具有純度高粒徑小，分布均勻、比表面積大，高表面活性，:灰色粉末，立方晶結構。顯微硬度16GPa。由鉿和氮在900℃直接反應生成，或由鉿鹵化物和氨或氮和氫混合氣體反應制取。為重要難熔化合物鉿合金的重要組分。
產品應用:
氮化鉿具有優異的力學、電學、光學、耐高溫和耐腐蝕等特性，在機械制造和微電子等領域具有非常重要的應用；納米氮化鉿可以廣泛應用于半導體、光電和機械加工等眾多領域;納米氮化鉿由于同時集成了多種優異的力學、熱學、光學以及耐腐蝕磨損等特性，納米氮化鉿膜有望成為一種高效的光學窗口增透保護涂層材料，可以應用在航空航天的關鍵光學器件上。HfN是一種熔點高，高硬度，耐磨，抗氧化的新型硬質材料，可用于技術和裝飾領域的保護層，刀具的抗磨損外膜以及化學惰性膜和耐高溫的保護膜等。