硅負極（納米硅、氧化亞硅、多孔硅）CVD氣相沉積碳包覆回轉爐

適用物料：納米硅、硅氧（氧化亞硅）、多孔硅

使用工況：CVD氣相沉積碳包覆（一次包覆、二次包覆）

均勻包覆碳含量：1.6%-22%（可控可調）

適用氣體：氮氣、氬氣、甲烷、乙炔、氨氣（丙酮、苯、乙醇、瀝青等）

公司備有多臺公斤級、百公斤級硅負極用cvd爐系統(tǒng)免費供客戶實驗用，公司目前已完成300+批次的硅負極cvd實驗，通過客戶反饋實驗數(shù)據(jù)不斷優(yōu)化cvd爐的設計。通過大量實驗積累了豐富的cvd經(jīng)驗。