粉體行業(yè)在線展覽
VCVD-0608-SIC
面議
頂立科技
VCVD-0608-SIC
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立式化學(xué)氣相沉積爐(SiC、BN)
產(chǎn)品描述:
立式化學(xué)氣相沉積爐(SiC、BN)可用于材料的表面涂層、基體改性、復(fù)合材料制備等
應(yīng)用范圍:
外延片基座、晶體爐高溫耐材、熱彎模具、半導(dǎo)體坩堝、陶瓷基復(fù)合材料等
采用先進(jìn)的控制技術(shù),能精密控制MTS的流量和壓力,爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定,壓力波動(dòng)范圍小;
全密閉沉積室,密封效果好,抗污染能力強(qiáng);
多通道工藝氣路,流場(chǎng)均勻,無沉積死角,沉積效果好;
多級(jí)高效尾氣處理系統(tǒng),能有效處理高腐蝕性尾氣、易燃易爆氣體、固體粉塵及低熔點(diǎn)粘性產(chǎn)物,環(huán)境友好;
可選配新設(shè)計(jì)的防腐蝕真空機(jī)組,持續(xù)工作時(shí)間長,維修率極低;
使用工藝氣氛:真空/CH4/H2/N2/Ar/BCI3/NH3/MTS。
| 參數(shù)\型號(hào) | VCVD-0305-SIC | VCVD-0608-SIC | VCVD-0812-SIC | VCVD-1120-SIC | VCVD-1520-SIC |
| 工作區(qū)尺寸D×H(mm) | 300×500 | 600×800 | 800×1200 | 1100×2000 | 1500×2000 |
| **溫度(℃) | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 |
| 溫度均勻性(℃) | ±5 | ±7.5 | ±7.5 | ±10 | ±10 |
| 極限真空度(Pa) | 1-100 | 1-100 | 1-100 | 1-100 | 1-100 |
| 壓升率(Pa/h) | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 |
| 加熱方式 | 電阻 | 電阻 | 電阻 | 電阻 | 電阻 |
以上參數(shù)可根據(jù)工藝要求進(jìn)行調(diào)整,不作為驗(yàn)收依據(jù),具體以技術(shù)方案和協(xié)議為準(zhǔn)。
結(jié)構(gòu)形式:臥式-單開門/雙開門;立式-上出料/下出料
爐門鎖緊方式:手動(dòng)/自動(dòng)
爐殼材質(zhì):內(nèi)層不銹鋼/全不銹鋼
保溫材質(zhì):碳?xì)?石墨氈/碳纖維固化氈/陶瓷纖維氈
加熱器、馬弗材質(zhì):石墨/CFC/金屬
熱電偶:K/N/C/S分度號(hào)
真空泵:機(jī)械泵組/耐腐蝕泵組
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