粉體行業(yè)在線展覽
8英寸快速退火爐RTP
面議
量伙半導(dǎo)體
8英寸快速退火爐RTP
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設(shè)備主要工藝應(yīng)用(Application)
·快速熱處理(RTP),快速退火(RTA),快速熱氧化(RTO),快速熱氮化(RTN);·離子注入/接觸退火;
●高溫退火;
●高溫?cái)U(kuò)散;
·金屬合金;
熱氧化處理,
設(shè)備主要應(yīng)用領(lǐng)域(Field):
●化合物半導(dǎo)體(磷化銦、砷化鎵、氮化物、碳化硅等);
●多晶硅;
·太陽(yáng)能電池片,
●MEMS等傳感器;
●二極管、MOSFET及IGBT等功率器件:
OLED、CMOS等光電器件;
●IC晶圓。
真空電弧爐VDK250
HTBL
DNN430C/630C/460C/660C
BAF1200真空氣氛爐
特殊高比重材料高真空燒結(jié)爐
VHP-H 真空熱壓爐(臥式)
AMB真空釬焊爐
PWS系列真空石墨化爐
HVSF
DGBZ型
無(wú)
略