粉體行業(yè)在線展覽
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粉體行業(yè)在線展覽
Bhadra?300系列立式爐
直接聯(lián)系
拉普拉斯（廣州）半導(dǎo)體科技有限公司
廣東
面議
拉普拉斯
Bhadra?300系列立式爐
400
技術(shù)參數(shù)
晶圓尺寸：12英寸
工藝類型：氧化、退火、LPCVD(SiN/POLY/TEOS/HTO)
適用材料：硅
應(yīng)用領(lǐng)域：功率半導(dǎo)體、集成電路、襯底材料、科研
Bhadra?立式高溫退火爐HBA150
Bhadra?立式高溫氧化爐HBO150
Pindola?臥式多功能爐PLX200
Bhadra?200系列立式爐
Bhadra?300系列立式爐
Bhadra?科研爐管設(shè)備-BHC200
Pindola?臥式預(yù)氧化爐
Pindola?鏈帶式燒結(jié)爐&氧化爐
Pindola?壓力燒結(jié)爐HIP600
Pindola?真空釬焊爐LVD400
JRF 系列
真空退火爐/釬焊爐VTHK550
VSF-V 石英槽沉爐
氮化鋁粉體量產(chǎn)爐
碳化硅涂層CVD爐
蓄熱式熱力氧化RTO
厚膜燒結(jié)爐
RBC系列反應(yīng)燒結(jié)爐
中頻感應(yīng)爐
250909-2
燒結(jié)爐（硬質(zhì)合金）
YSJ-171212
