特征概覽:

• 非接觸式超小設計，監測高功率射頻電源的電流及電壓傳輸
• 方便替換傳統的光譜儀，準確探測刻蝕工藝的終點
• 監測腔體是否刻蝕干凈及過度刻蝕，縮短刻蝕時間和降低氣體成本，提高生產機臺使用率
• 高速采樣頻率，可達2萬赫茲

應用：

• 用于半導體，平板顯示器及太陽能等行業PVD，CVD及刻蝕腔體工藝等離子體放弧探測及刻蝕終點探測（Endpoint）。